等離子清洗設(shè)備可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造過(guò)程中。半導(dǎo)體制造涉及多個(gè)步驟，其中之一是可以清潔半導(dǎo)體設(shè)備表面，去除沉積物、有機(jī)物、灰塵等污染物，確保設(shè)備的質(zhì)量和性能。等離子清洗設(shè)備可以利用等離子體產(chǎn)生的活性離子和化學(xué)反應(yīng)，可以在非常小的尺度上進(jìn)行清洗。